我公司銷(xiāo)售產(chǎn)品包括X射線熒光光譜儀（含能量色散和波長(zhǎng)色散型）（XRF）、電感耦合等離子體發(fā)射光譜儀（ICP）、原子熒光光譜儀（AFS）、原子吸收分光光度計(jì)（AAS）、光電直讀光譜儀（OES）、氣相色譜儀（GC）、液相色譜儀（LC）、能譜儀（EDS）、頻紅外碳硫分析儀（CS Analyzer）、礦漿載流在線采樣儀（OSA）等。產(chǎn)品主要應(yīng)用領(lǐng)域有電子電器、五金塑膠、珠寶首飾（貴金屬及鍍層檢測(cè)等）、玩具安全（EN71-3等）,F963中規(guī)定的有害物質(zhì)：鉛Pb、砷Ａs、銻Sb、鋇Ｂa、鎘Cd、鉻Cr、Ｈg、硒Se以及氯等鹵族元素、建材（水泥、玻璃、陶瓷等）、合金（銅合金、鋁合金、鎂合金等）、冶金（鋼鐵、稀土、鉬精礦、其它黑色及有色金屬等）、地質(zhì)采礦（各種礦石品位檢測(cè)設(shè)備）、塑料（無(wú)鹵測(cè)試等）、石油化工、嶺土、煤炭、食品、空氣、水質(zhì)、土壤、、商品檢驗(yàn)、質(zhì)量檢驗(yàn)、人體微量元素檢驗(yàn)等等?？傊N(xiāo)售的儀器設(shè)備應(yīng)用于元素分析，化合物測(cè)試，電鍍鍍層厚度檢測(cè)。

對(duì)于地質(zhì)、采礦、金屬、土壤、環(huán)境、考古、木材、電子、醫(yī)藥、環(huán)保、啤酒、電力、石油化工、玩具、大型工程、有害元素、鍋爐制造、電鍍鍍層、再生資源金屬、玻璃等各種元素分析.目前有兩種分析方法，物理分析和濕化學(xué)分析.物理分析一般是用X熒光光譜儀測(cè)試，使用簡(jiǎn)單方便，濕化學(xué)分析一般是指實(shí)驗(yàn)室使用的高精度分析設(shè)備，精度高，測(cè)試穩(wěn)定，結(jié)果可信度高。

ICP測(cè)定儀器

【詳細(xì)說(shuō)明】

電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜儀（ICP）

參考價(jià)格：面議

整機(jī)技術(shù)指標(biāo)

(1) 分析速度快 一分鐘分析快掃描20個(gè)元素以上

(2) 掃描范圍： 掃描范圍180~500nm、方式為正弦桿，由計(jì)算機(jī)控制的脈沖馬達(dá)驅(qū)動(dòng)，小掃描步距0.0005nm

(3) 波長(zhǎng)示值誤差和重復(fù)性：波長(zhǎng)示值誤差：± 0.03nm    重復(fù)性<= 0.005nm

(4) 相關(guān)系數(shù) >0.9998  ICP測(cè)定儀器

(5) 精密度： 相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差   RSD<1.5

(6) 穩(wěn)定性： 相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差      RSD<2.0

(7) 測(cè)量范圍： 超微量到常量

(8) 檢出限低 ppb（ug/L）級(jí)(部分元素檢出限見(jiàn)附錄一)

(9) 分析元素多 可對(duì)72種金屬元素和部分非金屬元素（如B、P、Si、Se、Te）進(jìn)行定量或定性分析

射頻發(fā)生器（RF）

（1） 電路類(lèi)型：電感反饋?zhàn)约な秸袷庪娐?、同軸電纜輸出、匹配調(diào)諧、取功率 反饋信號(hào)，進(jìn)行閉環(huán)自動(dòng)控制。

（2） 工作頻率：40.68MHz ± 0.05

（3） 頻率穩(wěn)定性：<0.1

（4） 輸出功率：800-1200W

（5） 輸出功率穩(wěn)定性：&0.3

（6） 電磁場(chǎng)泄漏射強(qiáng)度：距機(jī)身20cm  

電場(chǎng)強(qiáng)度E：＜2 V / m

進(jìn)樣裝置

（1） 輸出工作線圈內(nèi)徑 25mm 、3匝

（2） 炬管：三同心型，外徑 20mm的石英炬管

（3） 同軸型噴霧器外徑 6mm

（4） 雙筒型霧室外徑 34mm

（5） 觀測(cè)位置 縱向觀察低和橫向觀察前后，可通過(guò)軟件直觀地調(diào)為佳

（6） 氬氣流量計(jì)規(guī)格和載氣壓力表規(guī)格：

1等離子氣流量計(jì) (100－1000)L/h  (1.6－16L/min)  電磁閥控制

2輔助氣流量計(jì) (10－100)L/h  (0.16－1.66L/min)

3載氣流量計(jì) (10－100)L/h  (0.16－1.66L/min)       電磁閥·控制·

4載氣穩(wěn)壓閥 (0－0.4Mpa)L/h

5冷卻水 水溫：15－25℃ 流量＞5L/min 水壓＞0.1Mpa 冷卻水：電阻率＞1MOmega

分光器

（1） 光路： Czerny－Turner

（2） 焦距： 1000mm

（3） 光柵規(guī)格：離子刻蝕全息光柵；刻線密度3600線/mm, 刻線面積：80×110mm  (可選用刻線密度2400線/mm, 刻線面積：80×110mm)

（4） 線色散率倒數(shù)： 0.26nm

（5） 分辨率：<0.008nm（全部波段）

（6） 掃描波長(zhǎng)范圍： 3600線/mm掃描波長(zhǎng)范圍：180nm-500nm

                                        2400線/mm掃描波長(zhǎng)范圍：180nm-800nm

（7） 步進(jìn)電機(jī)驅(qū)動(dòng)小步距： 0.0005nm

（8） 出射、入射狹縫：20um 、25um

（9） 反射鏡規(guī)格： （78×105×16）mm  

（10）透鏡     1:1成像

（11）反射鏡規(guī)格 凹型

（12）分光器恒溫裝置： 26℃±1℃

測(cè)光裝置

（1） 光電倍增管規(guī)格： R212UH或R928

（2） 光電倍增管負(fù)壓：200-1000V 自動(dòng)調(diào)節(jié) 穩(wěn)定性＜0.05

（3） 光電倍增管電流測(cè)量范圍: 10-4~10-9A

（4） 信號(hào)采集為V/F交換: 1mV對(duì)應(yīng)100Hz

（5） 采樣電路使用國(guó)外精密度運(yùn)算放大器，使儀器的靈敏度和度大大提

（6） 儀器數(shù)據(jù)采集是通過(guò)串口與電腦連接，從而簡(jiǎn)化了電路使連接更加便捷

儀器操作軟件要求

（1）操作系統(tǒng) Windows XP 操作平臺(tái)

（2）測(cè)定波長(zhǎng)數(shù)  任意選擇

（3）數(shù)據(jù)庫(kù) 譜線庫(kù)11萬(wàn)條以上

（4）多窗口 在測(cè)量完一次結(jié)果后可以在顯示窗口保留上次結(jié)果同時(shí)、測(cè)量下一樣品

（5）有標(biāo)準(zhǔn)加入法 軟件要有標(biāo)準(zhǔn)加入法，以便在不同條件和應(yīng)用中下使用

（6）分析模式 軟件默認(rèn)佳分析模式，擁有儀器診斷、譜圖分析及幾種測(cè)量方式和幾種積分模式，單位任選等多種功能

主要特點(diǎn)

關(guān)鍵部件采用進(jìn)口元器件 確保儀器的度和靈敏度.

測(cè)量范圍： 超微量到常量的分析.

重復(fù)性：     相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD<1.5

穩(wěn)定性：     相對(duì)標(biāo)準(zhǔn)偏差RSD<2.0

分析速度快： 掃描速度快達(dá)20個(gè)元素/min

分析元素多： 可對(duì)72種金屬元素和部分非金屬元素（P、B、Si、Se、Te）定性和定量分析.

檢出限低 ： 一般在ug/L(ppb)級(jí). (1ug/ml Pb標(biāo)準(zhǔn)溶液性背比&ge5倍 )

測(cè)量線性范圍： （相關(guān)系數(shù)>0.9998）

儀器介紹

等離子體單道掃描光譜儀,是多元素順序測(cè)量的分析測(cè)試儀器。 該儀器由掃描分光器、射頻發(fā)生器、試樣引入系統(tǒng)、光電轉(zhuǎn)換、控制系統(tǒng)、數(shù)據(jù)處理系統(tǒng)、分析操作軟件組成。等離子體是在三重同心石英炬管中產(chǎn)生。炬管內(nèi)分別以切向通入氬氣，炬管上部繞有紫銅負(fù)載線圈<內(nèi)通冷卻水>當(dāng)頻發(fā)生器產(chǎn)生的頻電流（工作頻率40MHz功率1KW左右）通過(guò)線圈時(shí)，其周?chē)a(chǎn)生交變磁場(chǎng)，使少量氬氣電離產(chǎn)生電子和離子，在磁場(chǎng)作用下加速運(yùn)動(dòng)與其它中性原子碰撞，產(chǎn)生更多的電子和離子，在炬管內(nèi)形成渦流，在電火花作用下形成等離子炬（即等離子體），這種等離子體溫度可達(dá)10000K以上。原子在受到外界能量的作用下電離，但處于激發(fā)態(tài)的原子十分不穩(wěn)定，從較能級(jí)躍遷到基態(tài)時(shí)，將釋放出巨大能量，這種能量是以一定波長(zhǎng)的電磁波的形式輻射出去。不同元素產(chǎn)生不同的特征光譜。這些特征光譜通過(guò)透鏡射到分光器中的光柵上，計(jì)算通過(guò)控制步進(jìn)電機(jī)轉(zhuǎn)動(dòng)光柵,傳動(dòng)機(jī)構(gòu)將分光后的待測(cè)元素特征譜線光強(qiáng)準(zhǔn)確定位于出口狹縫處，光電倍增管將該譜線光強(qiáng)轉(zhuǎn)變?yōu)楣怆娏?，再?jīng)電路處理和V/F轉(zhuǎn)換后，由計(jì)算機(jī)進(jìn)行數(shù)據(jù)處理，后由打印機(jī)打出分析結(jié)果。