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電鍍鍍層厚度測(cè)試儀器 熒光X射線鍍層測(cè)厚儀:該儀器利用X射線照射被測(cè)金屬表面,當(dāng)X射線被反射回來(lái)時(shí),會(huì)受到金屬表面的反射,從而得到金屬的厚度。
電鍍層膜厚測(cè)量?jī)x 熒光X射線鍍層測(cè)厚儀:這類儀器采用熒光X射線原理,通過(guò)測(cè)量X射線照射到覆層表面后被吸收和散射的程度來(lái)測(cè)定覆層厚度。
X射線熒光光譜鍍層厚度分析儀 工作環(huán)境要求: 2.1環(huán)境溫度要求:15℃-30℃ 2.2環(huán)境相對(duì)濕度:70% 2.3工作電源:交流220±5V 2.4周圍不能有強(qiáng)電磁干擾。
電鍍鍍金厚度檢測(cè)儀器 單層厚度范圍: 金鍍層0-8um, 鉻鍍層0-15um, 其余一般為0-30um以內(nèi), 可最小測(cè)量達(dá)0.001um。 多層厚度范圍: Au/Ni/Cu : Au分析厚度:0-8um Ni分析厚度:0-30um Sn/Ni/Cu: Sn分析厚度:0-30um Ni分析厚度:0-30um Cr/Ni/Fe: Cr分析厚度0-15um Ni分析
iEDX-150Tx射線熒光光譜鍍層厚度測(cè)試儀 鍍層檢測(cè): 2.1、常見(jiàn)金屬鍍層有: 鍍層 基體NiNi-PTiCuSnSn-PbZnCrAuZn-NiAgPdRh Al●●●●●●●●●●●●● Cu●●●●●●●●●●●● Zn●●●●●●●●●●●● Fe●●●●●●●●
電鍍層厚度分析機(jī)器 軟件校正功能: - 基點(diǎn)校正(基線本底校正) - 多材料基點(diǎn)校正,如:不銹鋼,黃銅,青銅等 - 密度校正
電鍍層厚度測(cè)試設(shè)備 自動(dòng)標(biāo)定曲線進(jìn)行多層分析 - 使用無(wú)標(biāo)樣基本參數(shù)計(jì)算方法 - 使用標(biāo)樣進(jìn)行多點(diǎn)重復(fù)標(biāo)定 - 標(biāo)定曲線顯示參數(shù)及自動(dòng)調(diào)整功能
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